根据相关法律规定，集成电路布图设计不能取得专利权，应由集成电路布图设计专有权进行保护。集成电路实际上是一种具有实用性的图形设计，其内容由集成电路中具有电子功能的元件位置进行决定，而非产品外观，因此不能落入《专利法》中外观设计专利保护的范畴。
根据《集成电路布图设计保护条例》
第二条：本条例下列用语的含义：(一)集成电路，是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品;(二)集成电路布图设计(以下简称布图设计)，是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置;(三)布图设计权利人，是指依照本条例的规定，对布图设计享有专有权的自然人、法人或者其他组织; (四)复制，是指重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为;(五)商业利用，是指为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的行为。
第三条：中国自然人、法人或者其他组织创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权。外国人创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的，依照本条例享有布图设计专有权。
集成电路布图设计专有权的包括复制权、商业利用权两大类。
1、复制权：未经权利人许可，任何第三人不得复制受保护的布图设计(既包括全部布图设计，也包括部分布图设计)。对集成电路布图设计专有权的复制行为是指重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为
2、商业利用权：是指未经权利人许可，任何第三人不得为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品。
根据《集成电路布图设计保护条例》
第二条：本条例下列用语的含义：(一)集成电路，是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品;(二)集成电路布图设计(以下简称布图设计)，是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置;(三)布图设计权利人，是指依照本条例的规定，对布图设计享有专有权的自然人、法人或者其他组织;(四)复制，是指重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为;(五)商业利用，是指为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的行为。
第七条：布图设计权利人享有下列专有权：(一)对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制;(二)将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投入商业利用。
专利权评价报告的官费收取标准和专利侵权纠纷中的证据要求。根据相关规定，申请人需支付2400元的专利权评价报告请求费，此费用适用于实用新型和外观设计专利。在专利侵权纠纷中，涉及不同类型专利需提供的证据不同，法院或专利管理部门有权要求提供专利权评价报告作
专利权的含义与分类以及法律特征。专利权指在一定期限内国家授予专利人的对其专利产品的专有权利，包括发明、实用新型和外观设计三种专利。专利权具有独占性、时间性和地域性三大法律特征。
专利保护期限的计算方法以及专利申请的原则。发明专利权的保护期限为二十年，实用新型和外观设计专利权的保护期限为十年，均从申请日起算。专利申请应遵循形式法定原则、单一性原则、先申请原则和优先权原则。优先权旨在排除其他国家抄袭，通过抢先申请获得注册可能性。
实际上是重新制作含有该布图设计的集成电路。是指专有权人为商业目的而利用布图设计或含有布图设计的集成电路的权利。(五)布图设计的创作完成日期;
